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이차전지 음극소재 제조장비

기존 제조 공정기술과의 차별성

[기존 공정 - CVD]

•2,800~3,200℃ 고온 열처리 필요

•고가 micron(<50㎛) size Si and SiO2 필요

•낮은 생산성 [고온 열처리 및 Hexane gas coating]

•고가 생산장비 필요 [고온 냉각, 분말 취합 etc]

•사업화 접근성 낮음

[당사 공법 - 액상 합성법]

• 상온 교반 반응으로 중간체 형성 후, 열처리 제조

• 저가 원자재

• 높은 생산성 [상온 액상반응에 의한 생산성 향상]

• 공정 중 발생 HCl 제어기술 확보 완료

대량 생산이 용이한 액상 합성법 음극소재 제조장비 개발

CCSS

[Control Chemical Supply System]

Raw materials

Supply[exact quantity]

Sponge Reaction

Heating

Liquid

Sponge

Type

React to solid SiOx

Milling

최적 size milling

Meta-stable

Medium Materials

Solid SiOx

except sizing

Feeding Unit

Reactor

Furnace

Milling Machine

이차전지 음극소재 종류 및 특징 

LIB 음극소재

탄소계

(Graphite)

•용량: 280~370 mAh/g

•8$~12$ 시장 형성

•중국 업체 시장 점유

금속계

(Si, Sn metal)

•용량: 3,000~4,000 mAh/g

•상업적 사용 불가능

•부피팽창으로 용량 퇴화가 높음

산화물계

(SiOx)

•용량: 1,000~1,800 mAh/g

•상업적 사용 중/가치 높음

•대량 생산 기업 극소수